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光刻膠企業需要光刻機嗎

圖文 更新时间:2024-08-01 02:21:54

光刻膠企業需要光刻機嗎?光刻中所使用的膠,完整稱呼是光刻膠,學名是光緻抗蝕劑顧名思義,它可以保護晶圓在後續加工過程中,例如腐蝕、離子注入、鍍制膜層時,不受侵擾;而保護的範圍,能夠通過光的作用,進行調整和改變,我來為大家講解一下關于光刻膠企業需要光刻機嗎?跟着小編一起來看一看吧!

光刻膠企業需要光刻機嗎(光刻與光刻機知識通俗系列介紹)1

光刻膠企業需要光刻機嗎

光刻中所使用的膠,完整稱呼是光刻膠,學名是光緻抗蝕劑。顧名思義,它可以保護晶圓在後續加工過程中,例如腐蝕、離子注入、鍍制膜層時,不受侵擾;而保護的範圍,能夠通過光的作用,進行調整和改變。

改變調整晶圓受光刻膠保護範圍的過程,也就是光刻膠的過程,既不是機械式的刻,也不是像激光切割機式的刻,前面說過了,是先曝光、後顯影。

光刻膠分為正性光刻膠和負性光刻膠兩大類。

正性光刻膠是原來不溶于有機溶劑的有機高分子化合物,曝光的時候,受到光照射的膠分子發生光降解反應,即從不溶于有機溶劑的大分子量有機化合物,降解為能夠溶解于有機溶劑的小分子量有機化合物,并在顯影的過程中被有機溶劑溶解掉,也就是被“刻”掉。沒有在曝光時受到光照射的膠分子仍然覆蓋在晶圓的表面上,在後續的腐蝕工藝中對晶圓表面發揮着保護作用。

負性光刻膠本來是能夠溶于有機溶劑的小分子量有機高分子化合物,曝光的時候,受到光照射區域的膠分子發生交聯反應,變為不再溶于有機溶劑的大分子量有機高分子化合物,到顯影的時候,這部分被曝光的膠就留了下來。在後續的腐蝕工藝過程中,這部分留下了的膠起着保護晶圓的作用。

雖然看起來,正性光刻膠和負性光刻膠都可以有選擇性地保護晶圓,光刻過程中似乎選擇其中任意一種都能夠到達光刻的目的。但是,在實際操作中,負性光刻膠的有機溶劑是存在安全隐患與環保隐患的二甲苯;而且,即使是沒有被二甲苯溶解的那部分光刻膠也會或多或少地吸收一部分二甲苯,使得體積膨脹起來,影響光刻機上被刻圖形的精細程度,所以現在制作大規模集成電路和超大規模集成電路時,傾向于選用正性光刻膠,而不再使用負性光刻膠。

本系列科普文章的下一篇是(5)《光掩膜的概念》。

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