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任正非華為光刻技術進展

生活 更新时间:2025-02-24 23:20:38

近日,有媒體報道稱,華為将在上海建立一條不使用美國技術的芯片廠,确保華為能在美國制裁下,仍有生産5G電信基礎設施所需的芯片。

具體來說,這座芯片廠将由上海集成電路研發中心(ICRD)營運,内部設立了諸多目标:初期先試産45nm制程芯片;在2021年前生産28nm制程芯片,用于華為IoT設備如智能電視;在2022年前生産20nm支撐芯片,用于華為多數5G電信設備。

對于華為自建芯片生産線的努力,據《中國半導體論壇》報道,原工信部部長李毅中也在近日表示:“面對美方窮兇極惡的圍剿,華為有志建立芯片制造線,我們應該給予支持。”

任正非華為光刻技術進展(在上海建芯片廠)1

對此,AI财經社獲悉,此前,國内一家大型互聯網公司拜訪華為時,華為人士表達了自建芯片生産線的信息,并告知他從45nm制程做起。

另有芯片業内人士告訴AI财經社:ICRD在上海張江有一條中試線(正式量産之前的中等規模生産線),并非用于正式生産。該生産線由華虹控股,規模較小,潔淨室面積隻有2000平方米。

此前,華為也有芯片生産線。華為在武漢有一條化合物半導體生産線,用于光通信業務,但規模較小,隻是4英寸或者6英寸線。此外,華為也有自己的封裝線。

之前還有傳聞稱華為正自研光刻機。行業人士告訴AI财經社,華為從上海微電子裝備(集團)股份有限公司挖工程師,這家企業從事光刻機研發。但尚不清楚這些工程師是參與華為自研光刻機項目,還是參與華為上述芯片生産線的光刻業務。(記者/牛耕 編輯/趙豔秋)

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