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PVD真空鍍膜原理是什麼

知識 更新时间:2025-03-23 04:50:06

  目前常用的PVD有三種:真空蒸鍍、濺射鍍膜和離子鍍;它們的工作原理如下:1、真鍍空膜:是在适當的壓強下用電子束等熱源加熱材料使之蒸發,蒸發的原子或分子直接在工件表面形成沉積層;

  2、濺射鍍膜:是不采用蒸發技術的物理氣相沉積方法,施鍍時,将工作室抽成真空,沖入氩氣做為工作氣體,并保持其壓力為0.13至1、33帕;

  3、離子鍍:是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或蒸發物質離子化,在氣體離子或蒸發物質離子轟擊作用下,把蒸發物質或其他反應物蒸鍍在工件上。

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