1、測量台、曝光台:是承載矽片的工作台。
2、激光器:也就是光源,光刻機核心設備之一。
3、光束矯正器:矯正光束入射方向,讓激光束盡量平行。
4、能量控制器:控制最終照射到矽片上的能量,曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。
5、光束形狀設置:設置光束為圓型、環型等不同形狀,不同的光束狀态有不同的光學特性。
6、遮光器:在不需要曝光的時候,阻止光束照射到矽片。
7、能量探測器:檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求,并反饋給能量控制器進行調整。
8、掩模版:一塊在内部刻着線路設計圖的玻璃闆,貴的要數十萬美元。
9、掩膜台:承載掩模版運動的設備,運動控制精度是nm級的。
10、物鏡:物鏡用來補償光學誤差,并将線路圖等比例縮小。
11、矽片:用矽晶制成的圓片。矽片有多種尺寸,尺寸越大,産率越高。題外話,由于矽片是圓的,所以需要在矽片上剪一個缺口來确認矽片的坐标系,根據缺口的形狀不同分為兩種,分别叫flat、 notch。
12、内部封閉框架、減振器:将工作台與外部環境隔離,保持水平,減少外界振動幹擾,并維持穩定的溫度、壓力。
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