目前最常用的制備CoPt磁性薄膜的方法是磁控濺射法。氩離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面,将靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。通過更換不同材質的靶和控制不同的濺射時間,便可以獲得不同材質和不同厚度的薄膜。磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結合力強、鍍膜層緻密、均勻等優點。
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