tft每日頭條

 > 知識

 > 磁控濺射法的優勢特點

磁控濺射法的優勢特點

知識 更新时间:2024-07-06 03:40:27

  目前最常用的制備CoPt磁性薄膜的方法是磁控濺射法。氩離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面,将靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。通過更換不同材質的靶和控制不同的濺射時間,便可以獲得不同材質和不同厚度的薄膜。磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結合力強、鍍膜層緻密、均勻等優點。

更多精彩资讯请关注tft每日頭條,我们将持续为您更新最新资讯!

查看全部

相关知識资讯推荐

热门知識资讯推荐

网友关注

Copyright 2023-2024 - www.tftnews.com All Rights Reserved