臭氧層破壞的原因?人類過多地使用氯氟烴類化學物質(用CFCs表示)是臭氧層被破壞的主要原因氯氟烴是一種人造化學物質在第二次世界大戰後,尤其是進入20世紀60年代以後,氯氟烴大量用作氣溶膠、制冷劑、發泡劑、化工溶劑等,接下來我們就來聊聊關于臭氧層破壞的原因?以下内容大家不妨參考一二希望能幫到您!
人類過多地使用氯氟烴類化學物質(用CFCs表示)是臭氧層被破壞的主要原因。氯氟烴是一種人造化學物質。在第二次世界大戰後,尤其是進入20世紀60年代以後,氯氟烴大量用作氣溶膠、制冷劑、發泡劑、化工溶劑等。
另外,哈龍類物質(用于滅火器)、氮氧化物也會造成臭氧層的損耗。
發展中國家必須于2005年之前将氟氯烴的排放量凍結在1995-1997年的平均數量上,而發達國家已于1996年間基本停止使用這些消耗臭氧層的主要物質。
因此,必須積極尋找新的制冷工質來代替氯氟烴類物質,世界各國已經進行了許多新的嘗試,主要是應用兩類制冷劑和确定三個發展方向。
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