目前廣泛使用的物理化學清洗方法大緻可分為濕法清洗和幹法清洗兩類。濕法清洗在現階段的微電子清洗技術中也占據主導地位。
但從對環境、原材料消耗和未來發展的影響來看，幹法清洗明顯優于濕法清洗。幹法清洗包括等離子體清洗、紫外線清洗、激光清洗、幹冰清洗等。
其中，等離子體發展迅速，優勢明顯，目前，等離子清洗技術已逐步在半導體制造、微電子包裝、塑料等表面清洗活化處理，其獨特的優勢逐漸得到國内各行業的認可。
等離子體是一些電離氣體，是除固體、液體和氣體以外的第四種常見物質狀态。
等離子體由電子和自由組成的離子和自由基等活性粒子，在等離子體中的存在很容易與之相處反應發生在固體表面。
等離子清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為等離子體；固體表面吸附氣相物質；吸附基礎産物分子與固體表面分子反應，産物分子分析形成氣相；反應殘留物脫離表面。
等離子體清洗技術的最大特點是可以處理金屬、半導體、氧化物等材料，今日為大家介紹一下，等離子清洗技術在隐形眼鏡的應用。
大多數隐形眼鏡都是由有機玻璃制成的，它具有折射率高、硬度合适、親和力好等優點，但具有親水性較差的缺點，長期佩戴會引起眼睛不适，對氧氣滲透性差，佩戴時容易造成眼炎等問題。
據說市面上借助低溫等離子清洗技術處理，不僅可以去除隐形眼鏡表面的污垢，還可以利用在隐形眼鏡表面形成一層薄膜，可以提高其親水性、保濕性和透氣性。
等離子體含氫氣體用于體内清洗，可以提高眼鏡的潤濕性和生物相容性。在等離子體清洗條件下，透鏡也可以同時使用不同材料的表面接枝。
等離子清洗通常是指在不破壞材料表面特性和電氣特性的情況下，有效去除材料中殘留物和有機物雜質。
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