場發射掃描電鏡(FESEM)是電子顯微鏡的一種,其原理是利用二次電子或背散射電子成像,對樣品表面放大一定的倍數進行形貌觀察,同時利用電子激發出樣品表面的特征X射線來對微區的成分進行定性定量分析,是我們材料研究分析中一雙亮麗的“眼睛”。
掃描電鏡按照電子槍分類可以分為鎢(W)燈絲、六硼化镧(LaB6)燈絲、場發射 (Field Emission)三種,場發射掃描電鏡相比于鎢燈絲、六硼化镧,具有電子束斑小、高分辨率、穩定性好等特點。
1、金屬、陶瓷、高分子、礦物、半導體、紙張、化工産品的顯微形貌觀察及材料的晶體結構、相組織分析;
2、各種材料微區化學成分的定性定量檢測;
3、粉末、微粒、納米樣品形态觀察和粒度測定;
4、機械零件與工業産品的失效分析;
5、鍍層厚度、成分與質量測定;
6、生物、醫學和農業等領域。
案例1:碳納米管,石墨SEM形貌觀察;
案例2:LED熒光填充物進行成分分析;
案例3:粉末樣品的粒度分析測量;
案例4:金屬鍍層厚度測量;
案例5:金屬間化合物觀察與測量;
案例6:錫須觀察;
案例7:斷口分析;
案例8:PCB失效分析(如金,鎳面形貌及腐蝕深度)。
1、SEM的二次電子成像分辨率 1.0nm;
2、背散射電子成像分辨率 2.0nm;
3、EDS成分分析的元素範圍Be(4)~Cf(98);
4、分析深度約1μm;
5、檢測下限約1%;
6、空間分辨率約1μm。
863檢測本着質量為先,信譽為重,管理為本,服務為誠的工作原則為您的産品問題排憂解難。
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