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5nm光刻機的原理

職場 更新时间:2024-12-24 08:41:49

5nm光刻機的原理?光刻機可以分為用于生産芯片、用于封裝和用于LED制造按照光源和發展前後,依次可分為紫外光源(UV)、深紫外光源(DUV)、極紫外光源(EUV),光源的波長影光刻機的工藝光刻機可分為接觸式光刻、直寫式光刻、投影式光刻,今天小編就來聊一聊關于5nm光刻機的原理?接下來我們就一起去研究一下吧!

5nm光刻機的原理(光刻機工作的原理介紹)1

5nm光刻機的原理

光刻機可以分為用于生産芯片、用于封裝和用于LED制造。按照光源和發展前後,依次可分為紫外光源(UV)、深紫外光源(DUV)、極紫外光源(EUV),光源的波長影光刻機的工藝。光刻機可分為接觸式光刻、直寫式光刻、投影式光刻。

原理:接近或接觸式光刻通過無限靠近,複制掩模闆上的圖案;直寫式光刻是将光束聚焦為一點,通過運動工件台或鏡頭掃描實現任意圖形加工。投影式光刻光刻因其高效率、無損傷的優點,是集成電路主流光刻技術。

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