純銅整體三維釺肋強化換熱管加工?鋁碳化矽(AlSiC)是鋁和碳化矽複合而成的金屬基熱管理複合材料,是電子元器件專用封裝材料,主要是指将鋁與高體積分數的碳化矽複合成為低密度、高導熱率和低膨脹系數的封裝材料,以解決電子電路的熱失效問題在中國,西安明科微電子材料有限公司與西北工業大學是最早合作開發這種材料的,接下來我們就來聊聊關于純銅整體三維釺肋強化換熱管加工?以下内容大家不妨參考一二希望能幫到您!
鋁碳化矽(AlSiC)是鋁和碳化矽複合而成的金屬基熱管理複合材料,是電子元器件專用封裝材料,主要是指将鋁與高體積分數的碳化矽複合成為低密度、高導熱率和低膨脹系數的封裝材料,以解決電子電路的熱失效問題。在中國,西安明科微電子材料有限公司與西北工業大學是最早合作開發這種材料的。
AlSiC具有高導熱率(180~240W/mK)和可調的熱膨脹系數(6.5~9.5×10-6/K),因此一方面AlSiC的熱膨脹系數與半導體芯片和陶瓷基片實現良好的匹配,能夠防止疲勞失效的産生,甚至可以将功率芯片直接安裝到AlSiC基闆上;另一方面AlSiC的熱導率是可伐合金的十倍,芯片産生的熱量可以及時散發。這樣,整個元器件的可靠性和穩定性大大提高。
有效改良我國航天、軍事、微波和其他功率微電子領域封裝技術水平,提高功能,降低成本,加快我國航天和軍工産品的先進化。例如,過去以可伐(Kovar) 材料作為器件封裝外殼的地方,如果換作鋁碳化矽外殼,重量就可減少為原來的三分之一,而導熱性能則增加為原來的十倍。
應用領域有,大功率率IGBT 散熱基闆;LED封裝照明;航空航天;微電子;殼體封裝;民用飛機、高鐵等領域。
金剛石銅是以銅為基體,金剛石顆粒為增強體制備的金剛石系列複合材料。将可以通過調整金剛石和銅/鋁的比例,設計最終的熱導率和熱膨脹系數的範圍。金剛石銅是具有高熱導率、低膨脹系數的新型電子封裝材料。有研總院加工事業部生産的金剛石/銅第四代高導熱、低膨脹熱管理材料的熱導率達到650 W/m·K以上,熱膨脹系數為5-7 ×10-6/℃,與國外同類産品相當,居國内領先,已成功應用于半導體激光器、微波功率器件、高功率半導體照明器件等熱沉部位,廣泛應用于工具制造、熱學、光學、電學等領域。
金剛石是各向同性傳熱且是天然材料中具有最高熱導率的物質。金剛石不僅熱導率高達2200 W·m-1·K-1,較低的熱膨脹系數1.0-1.2×10-6K-1,而且密度隻有3.52 g/cm-3,從理論上來講是獲得高熱導率、低熱膨脹系數的理想複合材料。随着人造單晶金剛石工藝的成熟,目前已經能夠大規模生産質好價廉的金剛石顆粒。銅是金屬中價格适中情況下,具有最高熱導率的材料(銀是金屬中導熱率最高的,但是價格昂貴),所以銅是一個理想的基體材料,以金剛石作為增強相的銅/金剛石(Cu/diamond)基複合材料在理論上熱導率可達1000 W·m-1·K-1,是第三代封裝材料的5倍。這類金剛石/金屬複合材料被稱為第四代電子封裝材料。
氮化鋁,共價鍵化合物,化學式為AIN,是原子晶體,屬類金剛石氮化物、六方晶系,纖鋅礦型的晶體結構,無毒,呈白色或灰白色。
AlN最高可穩定到2200℃。室溫強度高,且強度随溫度的升高下降較慢。導熱性好,熱膨脹系數小,是良好的耐熱沖擊材料。抗熔融金屬侵蝕的能力強,是熔鑄純鐵、鋁或鋁合金理想的坩埚材料。氮化鋁還是電絕緣體,介電性能良好,用作電器元件也很有希望。砷化镓表面的氮化鋁塗層,能保護它在退火時免受離子的注入。氮化鋁還是由六方氮化硼轉變為立方氮化硼的催化劑。室溫下與水緩慢反應.可由鋁粉在氨或氮氣氛中800~1000℃合成,産物為白色到灰藍色粉末。或由Al2O3-C-N2體系在1600~1750℃反應合成,産物為灰白色粉末。或氯化鋁與氨經氣相反應制得.塗層可由AlCl3-NH3體系通過氣相沉積法合成。
(1)熱導率高(約320W/m·K),接近BeO和SiC,是Al2O3的5倍以上;
(2)熱膨脹系數(4.5×10-6℃)與Si(3.5~4×10-6℃)和GaAs(6×10-6℃)匹配;
(3)各種電性能(介電常數、介質損耗、體電阻率、介電強度)優良;
(4)機械性能好,抗折強度高于Al2O3和BeO陶瓷,可以常壓燒結;
(5)純度高;
(6)光傳輸特性好;
(7)無毒;
(8)可采用流延工藝制作。是一種很有前途的高功率集成電路基片和包裝材料。
高矽鋁合金是由矽和鋁組成的二元合金,是一種主要用于航天航空、空間技術和便攜式電子器件的合金材料。高矽鋁合金在電子封裝的應用
1)大功率集成電路封裝:高矽鋁合金提供有效的散熱;
2)載波器:可作為局部散熱件,使元器件更緊密的排列;
3)光學框架:高矽鋁合金提供低熱膨脹系數,高剛度和可加工性;
4)熱沉件:高矽鋁合金提供有效的散熱和和結構支撐。
更多精彩资讯请关注tft每日頭條,我们将持续为您更新最新资讯!