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真空鍍膜設備驗收标準

科技 更新时间:2024-09-09 16:53:50

真空蒸發鍍膜法:就是将鍍的基材放于真空鍍膜機的電極上進行加熱,使其蒸發變為氣體,由于鍍膜室處于真空狀态,所以氣體膜材的運輸不會收到阻礙,最後沉積到基片表面,就形成了均勻的薄膜。

整個過程分為三個步驟:

1、膜材的蒸發過程,需要确立條件:膜材料的蒸發溫度,膜材蒸發的最佳蒸汽壓;膜材料的蒸發速率。

2、膜材料的蒸發過程逸出的遷移,所需确立條件:在鍍膜過程中,要保持真空室内的真空度一直高于10-2Pa,真空度應該是一個适宜的固定值,并不是越高越好。

3、逸出的粒子到達基片表面成膜的過程,所需确立條件:适當提高蒸發速率有利于形成純淨度較高的膜。

真空鍍膜設備驗收标準(真空鍍膜設備的簡介及應用範圍)1

真空鍍膜的運作過程

其中拿濺射鍍膜法來舉例子:濺射鍍膜法的原理是用荷能離子轟擊靶材,将分子或者原子從靶材上激射下來最後成膜。如圖所示

真空鍍膜設備驗收标準(真空鍍膜設備的簡介及應用範圍)2

濺射鍍膜運作過程

影響濺射産額的因素主要有:入射離子的能量大小、靶材的種類,入射離子種類、轟擊離子的入射角以及靶材溫度等。控制好靶材的種類能大大提高濺射産額。

該設備集磁控濺射與離子鍍膜技術為一體,對提高顔色一緻性、沉積速率及化合物成份的穩定性提供了解決方案。根據不同的産品需求,可選配加熱系統、偏壓系統、離化系統等裝置,其靶位分布可靈活調整,膜層均勻性優越;配備不同的靶材,可鍍制出性能更好的複合膜層。設備所鍍制的膜層具有附着力強,緻密性高的優點,可有效提高産品的耐鹽霧性、耐磨性及産品表面硬度,滿足了高性能膜層制備的需求。可适用于不鏽鋼、水鍍五金件/塑膠件、玻璃、陶瓷等材質;可制備TiN/TiCN/TiC/TiO2/TiAlN/CrN/ZrN/CrC等金屬化合物膜層;可實現深黑色、爐内金、玫瑰金、仿金、锆金、寶石藍、亮銀色等顔色。

設備主要用于電子産品五金件、高檔鐘表、高檔首飾、品牌皮具五金件等。

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