光刻膠也稱為光緻抗蝕劑,是一種光敏材料,受到光照後特性會發生改變,是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一,主要應用于電子工業和印刷工業領域。光刻膠有正膠和負膠之分:正膠經過曝光後,受到光照的部分變得容易溶解,經過顯影後被溶解,隻留下未受光照的部分形成圖形;而負膠卻恰恰相反,經過曝光後,受到光照的部分會變得不易溶解,經過顯影後,留下光照部分形成圖形。
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