佳能光刻機22納米,光刻機是制造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。光刻機可以分鐘兩種,分别是模闆和圖樣大小一緻的contactaligner,曝光時模闆緊貼芯片;第二是類似投影機原理的stepper,獲得比模闆更小的曝光圖樣。
國内目前做光刻機的主要有上海微電子裝備有限公司、中子科技集團公司第四十五研究所國電、合肥芯碩半導體有限公司、先騰光電科技、無錫影速半導體科技。其中,上海微電子裝備有限公司已經量産的是90納米,這是在中國最領先的技術。其國家科技重大專項“極大規模集成電路制造裝備與成套工藝專項“的65nm光刻機研制,目前正在進行整機考核。對于光刻機技術來說,90納米是一個技術台階;45納米是一個技術台階;22納米是一個技術台階……90納米的技術升級到65納米不難,但是45納米要比65納米難多了。路要一步一步走,中國16個重大專項中的02專項提出光刻機到2020年出22納米的。目前主流的是45納米,而32納米和28納米的都需要深紫外光刻機上面改進升級。
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