我是小七,今天給大家分享一款常見的電壓基準芯片--LM185。(來源于 Ken Shirriff)。
許多電路,例如計算機電源或者手機充電器都需要穩定的電壓基準,但是當溫度變化時保持電壓溫度并不是一件容易的事情。
這個時候集成電路LM185就派上用場了,作者查看了這款芯片的裸片,發現一些有意思的事情。
相同的矽芯片用于三種不同的集成電路,使用微小的内部保險絲來改變其功能。
LM185 芯片使用稱為帶隙基準的特殊電路,即使溫度發生變化,也能保持電壓溫定。
這篇文章主要是關于 LM185 芯片的内部結構分析。
顯微鏡下的 LM158 芯片下面的照片顯示了顯微鏡下的 LM185 芯片,一個很小的矽方塊。
底層的矽是藍灰色的,而頂部的金屬線是橙色的。矽的區域摻雜有各種雜質,以在芯片上形成晶體管、電阻器和其他器件,随着矽的輕微顔色變化,摻雜的變化是可見的,頂部是國家半導體的标志。
LM185 的複合模具照片
LM185 提供三種變體,LM185-ADJ 是可調電壓基準。
總共有三個引腳:一個是控制電壓的反饋引腳。
LM185-1.2-N 是一個雙引腳器件,稱為“微功率電壓基準二極管”,類似于提供 1.235V 的齊納二極管,但性能更好(更低的功耗、更少的噪音和更好的穩定性。)
最後,LM185-2.5-N 提供了一個 2.5V 的基準電壓。這三種變體基于相同的矽芯片。後兩者具有内部連接的反饋,以提供固定電壓而不是可調電壓。
接下來的部分描述了芯片的各種組件是如何由矽制成的,以及它們是如何出現在芯片上的。
NPN晶體管下面的照片顯示了 LM185 中一個晶體管的特寫。矽中的黑線和稍有不同的色調表示已摻雜形成 N 和 P 區域的區域。白色區域是矽頂部芯片的金屬層——它們形成連接到集電極、發射極和基極的導線。
裸片上 NPN 晶體管的結構
照片下方是一個橫截面圖,說明了晶體管的構造方式。除了你在書中看到的 NPN 三極管之外,還有很多其他東西,但如果你仔細觀察“E”下方的垂直橫截面,你會發現形成晶體管的 NPN。
發射極 (E) 線連接到 N 矽。其下方是連接到基極觸點 (B) 的 P 層。在其下方是(間接)連接到收集器(C)的 N 層。
輸出晶體管(下圖)比其他晶體管大得多,并且具有不同的結構,以支持芯片的大電流輸出。它有多個用于發射極和基極的互鎖“指”,被大集電極包圍。
LM185 芯片中的大電流 NPN 輸出晶體管,标記了集電極 (C)、基極 (B) 和發射極 (E)
PNP晶體管你可能認為 PNP 晶體管與 NPN 晶體管相似,隻是交換了 N 和 P 矽的角色。
但由于各種原因,PNP 晶體管具有完全不同的結構。它們由一個小的圓形發射極 (P) 組成,周圍是一個由集電極 (P) 包圍的環形基極 (N)。
PNP 晶體管 與 NPN 晶體管的垂直結構不同,水平(橫向)形成了 PNP 三極管。
下圖顯示了 LM185 中的一個 PNP 晶體管,以及顯示矽結構的橫截面。請注意,雖然基極的金屬觸點位于晶體管的邊緣,但它通過 N 和 N 區域電連接到集電極和發射極之間的有源環。
LM185 芯片中的 PNP 晶體管,标記了集電極 (C)、發射極 (E) 和基極 (B) 的連接,以及 N 和 P 摻雜矽。
基極在發射極周圍形成一個環,而集電極在基極周圍形成一個環。
電阻電阻是模拟芯片的關鍵元件,不過 IC 中的電阻很大且不準确,不同芯片的電阻可能相差 50%。
模拟 IC 的設計隻有電阻的比率很重要,而不是絕對值,因為比率幾乎保持不變。
下圖顯示了兩個并聯電阻,其他電阻具有鋸齒形形狀,以便将更長的電阻安裝到可用空間中。
LM185芯片内部的電阻,電阻是兩個金屬觸點之間的一條 P 矽
電容電容由矽頂部的金屬闆組成,由充當電介質的薄氧化層隔開。
電容在集成電路上相當大,是該模具上最明顯的組件。
下面的電容包含多個圓形圖案,這些可以是摻雜矽區域,其中兩個區域之間的結提供額外的電容。
芯片上的電容
保險絲保險絲允許在制造後改變芯片的電路。
LM185 使用保險絲有兩個原因。首先,保險絲可以增加或去除電阻,從而允許調整電路以獲得更高的性能。
其次,保險絲改變了 LM185-1.2-N 和 LM185-2.5-N 變體之間的反饋電路。(LM185-ADJ 版本需要的更改比熔斷器支持的要多,因此需要對金屬層進行一些更改。例如,它連接了三個焊盤而不是兩個。)
保險絲附有兩個金屬焊盤,在封裝芯片之前,探針可以接觸焊盤并施加大電流來熔斷保險絲。
第一種保險絲是用一小條金屬汽化來斷開電路的,就像大型保險絲一樣。
第二種類型的熔斷器是“反熔斷器”,它具有相反的行為:在施加高電流之前它不會導通,此時它變成導通的。
反熔絲可以由齊納二極管構成,将其短路的過程稱為“齊納擊穿”。高電流通過結形成金屬尖峰,使其永久導電。下圖顯示了出現在裸片上的保險絲和反保險絲。
芯片上的保險絲和反熔絲,觸點最初有更多的金屬,作者用酸清除了模具上的粘液,它溶解了一些金屬
IC電路:電流鏡有一些電子器件在模拟 IC 中很常見,但起初可能看起來很神秘,電流鏡就是其中之一。
你可以用一個簡單的晶體管電路,電流鏡“克隆”電流的多個副本。
以下電路顯示了如何使用三個相同的晶體管實現電流鏡電路。
參考電流通過右側的晶體管。(在這種情況下,電流由電阻器設置。)由于所有晶體管具有相同的發射極電壓和基極電壓,因此它們提供相同的電流,因此左側的電流與參考電流相匹配。
電流鏡電路。左邊的電流複制右邊的電流
電流鏡的一個常見用途是替換電阻。在之前已經說過了 IC 内部的電阻器既大又不準确,所以盡可能使用電流鏡而不是多個電阻器來節省空間。
此外,與兩個電阻産生的電流不同,電流鏡産生的電流幾乎相同。
交互式芯片為了說明組件是如何形成芯片的,下面的芯片照片和原理圖是交互式的。
交互式芯片圖
交互式芯片原理圖
因為LM185的三個變種略有不同,所以不得不将三個原理圖組合起來形成上面的原理圖。紅色元件隻有LM185-ADJ,綠色元件在LM185-1.2-N,藍色元件在LM185-2.5-N,青色元件在後兩個芯片。主要區别在于反饋電路,但也有其他區别。
帶隙參考的工作原理從 IC 産生穩定電壓的主要問題是芯片的參數會随着溫度的變化而變化。帶隙電壓基準通常用于創建與溫度無關的電壓基準。
訣竅在于它有一個電壓随溫度下降而另一個電壓随溫度上升,如果正确組合它們,你将獲得随溫度穩定的電壓。
要産生随溫度下降的電壓,您你可以将恒定電流通過晶體管并查看基極和發射極之間的電壓,稱為 V be。下圖顯示了該電壓如何随着溫度升高而下降。左邊,線擊中矽的帶隙電壓,約 1.2 伏。
晶體管的 Vbe 與溫度的關系
如果你以這種方式設置第二個晶體管但電流較低,你可以獲得相同的效果,但電壓 V be曲線下降得更快。
不過這好像沒有什麼用,,因為我們需要一個随溫度升高的電壓。
但訣竅是:如果你減去兩個 V 的電壓,則差異會随着溫度的升高而增加,因為線路之間的距離越來越遠,該差稱為ΔV be。
下圖顯示了兩個不同晶體管的 V be曲線,你可以看到曲線之間的差異 ΔV be如何随溫度增加,即使兩條曲線都随溫度減小。
帶隙參考電壓:兩個晶體管随溫度變化的 Vbe
帶隙參考的最後一步是将 V be和 ΔV be組合成正确的比率,因此結果随溫度變化。
事實證明,如果這些值與矽的帶隙電壓(約 1.2 伏)相加,則 V be的下降和 ΔV 的增加被抵消。
在下圖中,增加 10 份 ΔV be是正确的比例,正确的比率取決于特定的晶體管。
下圖中要注意的重要一點是,随着溫度的變化,V be nΔV be保持不變 - 藍色 ΔV be線的頂部保持在帶隙電壓。
通過将 ΔVbe 的倍數與 Vbe 相加,無論溫度如何,都能達到帶隙電壓
在LM185中,關鍵晶體管是Q10和Q11,其中Q10有10個發射極并聯,所以每個都有1/10的電流。
因此,如果你将相同的電流饋入兩個晶體管,則 Q10 的 Vbe電壓低于 Q11,如上所述。
要注意,Q10 分為兩部分:Q11 上方的一半和 Q11 下方的一半。這種布局最大限度地減少了由于芯片上的溫度梯度引起的潛在誤差。
Q10 的一半會比 Q11 更熱,一半會更冷,因此差異将被抵消。
晶體管 Q10 和 Q11 是帶隙基準的關鍵,Q10 有 10 個發射極,因此每個發射極的電流是 Q11 的 1/10。
帶隙基準如何在 LM185 中實現下圖顯示了帶隙基準是如何在 LM185 中實現的。晶體管 Q10 和 Q11由于其相對尺寸而具有不同的 V be電壓,這些電壓的差異 (ΔV be ) 在 R7 上産生。
由于相同的電流流過 R6、R7 和 R8,根據歐姆定律,R6 上的電壓将為 4ΔV be,R8 上的電壓将為 6ΔV be 。因此,R6、R7 和 R8 的組合将 ΔV be乘以11。同時,Q14 具有自己的 V be。
LM185中的帶隙電路
将右側的電壓相加得出 V be 11ΔV be,其設計用于匹配 1.2 伏的溫度穩定帶隙電壓。因此,如果反饋輸入和 V 之間的電壓為 1.2 伏,則電路将達到平衡。
如果電壓不是 1.2 伏(上面有提過),Q10 和 Q11 将通過不同量的電流。由于電流鏡(Q12 和 Q13)試圖将相同的電流饋入 Q10 和 Q11,因此任何差異都會在錯誤輸出中顯示為電流。
該誤差電流被放大并控制輸出晶體管,調整電壓,直到反饋電壓恢複符合要求。因此,即使溫度發生變化,電路也能保持所需的電壓穩定。
結論文章有點長,雖然按照現代的标準, LM185 不包含那麼多的組件,但它提供了一個穩定、穩壓的電壓基準。除此以外,LM185 還有一些功能,例如使用保險絲來提高性能和銷售變體芯片,還說明了帶隙電壓調節器的原理。
以上就是今天的分享,希望大家能多多支持我呀。
圖片來源于小紅書
,更多精彩资讯请关注tft每日頭條,我们将持续为您更新最新资讯!