等離子清洗機的清洗機理主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:
1、無機氣體被激發為等離子态;
2、氣相物質被吸附在固體表面;
3、被吸附基團與固體表面分子反應生成産物分子;
4、産物分子解析形成氣相;反應殘餘物脫離表面;
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