在加工芯片的過程中,光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段,将光束透射過畫着線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,将線路圖成比例縮小後映射到矽片上,然後使用化學方法顯影,得到刻在矽片上的電路圖。
在半導體芯片制造設備中,投資最大、也是最為關鍵的是光刻機,光刻機同時也是精度與難度最高、技術最為密集、進步最快的一種系統性工程設備。光學光刻技術與其它光刻技術相比,具有生産率高、成本低、易實現高的對準和套刻精度、掩模制作相對簡單、工藝條件容易掌握等優點,一直是半導體芯片制造産業中的主流光刻技術。
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