真空鍍膜時控制膜層厚度的方法有:
1、由時間和功率控制膜層的厚度:根據厚度等于時間乘以速率,改變功率以保證V接近常數,再通過時間來控制厚度;
2、石英晶體監控:監測晶振片的振動頻率,根據厚度與頻率的變化關系,計算當前厚度來控制;
3、光學監控:直接測量膜系的光學特性;
4、目測:肉眼觀測反射顔色來控制膜層厚度,誤差太大。
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