1、光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻,所以叫 Mask Alignment System.
2、一般的光刻工藝要經曆矽片表面清洗烘幹、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
3、Photolithography(光刻) 意思是用光來制作一個圖形(工藝);
4、在矽片表面勻膠,然後将掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程将器件或電路結構臨時“複制”到矽片上的過程。
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