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中國光刻機的新突破

科技 更新时间:2024-08-27 08:15:46

  1、芯片設計的研究與開發離不開光刻機,特别是具有先進工藝技術的芯片。但ASML是全球先進平版印刷市場之上的巨頭。此前,中芯國際還花了很多錢購買了一台先進的平版印刷機。但由于美國的原因,ASML光刻機無法順利進入中國,這也給我國7Nm及更先進的工藝技術芯片的發展帶來了更嚴峻的挑戰。要知道,我國目前的量産光刻機還處于90nm的階段,比ASML光刻機落後了十多年。可見差距之大,也說明我國加強光刻機建設刻不容緩。

  2、最近傳來的好消息是,光刻機的問題可以得到有效的解決。據悉,上海微電子有限公司在紫外光源的幫助之下,成功實現了22nm的突破,推動了國産光刻機的發展,向前邁進了一大步。一旦技術成熟,意味着22nm光刻機将在中國問世,這将推動國産芯片的進一步發展,同時也給其他平版印刷廠家帶來了信心,這将有助于推動更多的廠家共同打造國産光刻機,提高中國在國際市場之上的競争力。

  3、雖然我國在光刻領域取得了新的進展,但國内光刻生産所需的零部件仍需從國外市場進口。顯然,在平版印刷的生産過程之中,中國仍然嚴重依賴外國。然而,無論多麼困難,中國企業都不能放棄。光刻機的自主研發是一個漫長的過程。未來,我們需要不斷努力,掌握自己手中的核心技術和供應鍊。希望今後國産光刻機能在國際市場之上取得更好的成績,使國産芯片能夠立足于全球市場。

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