化學氣相沉積是一種制備材料的氣相生長方法,它是把一種或幾種含有構成薄膜元素的化合物、單質氣體通入放置有基材的反應室,借助空間氣相化學反應在基體表面上沉積固态薄膜的工藝技術。
物理氣相沉積技術表示在真空條件下,采用物理方法,将材料源,即固體或液體,表面氣化成氣态原子、分子或部分電離成離子,并通過低壓氣體過程,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。
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