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光刻技術的原理是什麼

知識 更新时间:2025-01-21 14:12:26

  光刻技術的原理:集成電路制造中利用光學、化學反應原理和化學、物理刻蝕方法,将電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上,形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術。

  随着半導體技術的發展,光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2至3個數量級,已從常規光學技術發展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術;使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃數量級範圍。

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